半导体清洗超纯水设备制备工艺

    1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象

（≥15MΩ.CM）（传统工艺）

    2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（

≥16MΩ.CM）（工艺）

    3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌

器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）（工艺）

    半导体芯片清洗超纯水设备出水水质*符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、

10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准

、国内外大规模集成电路水质标准。

   公司设计、制造水处理净化设备；主营：纯水设备，去离子水设备，工业高纯水设备，反渗透设备，软化水设备，胶盐水设备，除盐水

设备，蒸馏水设备，工业高纯水机，净水机，离子交换设备，超纯水设备，电子、医药、化工等行业工业纯水设备，江、河、湖水净化设

备等。