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半导体清洗超纯水设备制备工艺

发布时间:2012-05-02 点击量:2447

    1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象

(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

    2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(

≥16MΩ.CM)(工艺)

    3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌

器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(工艺)

    半导体芯片清洗超纯水设备出水水质*符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、

10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准

、国内外大规模集成电路水质标准。

   公司设计、制造水处理净化设备;主营:纯水设备,去离子水设备,工业高纯水设备,反渗透设备,软化水设备,胶盐水设备,除盐水

设备,蒸馏水设备,工业高纯水机,净水机,离子交换设备,超纯水设备,电子、医药、化工等行业工业纯水设备,江、河、湖水净化设

备等。

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